Para la deposición de capas de tungsteno de la fase de vapor, un compuesto fácilmente evaporable de tungsteno se mezcla con un gas portador y / o gas reductor y se descompone o se reduce a una temperatura superior en un adecuado. | For the deposition of tungsten layers from the vapor phase, an easily evaporable tungsten compound is mixed with a carrier gas and/or reducing gas and decomposed or reduced at a higher temperature on a suitable. |
