sputtering

Keywords: sputtering; películas delgadas; corrosión; níquel.
Keywords: sputtering; thin films; corrosive; nickel.
Procesos de sputtering de plata están en preparacion.
Procesos de sputtering de plata estan en preparacion.
La excelencia en tecnología sputtering y la insuperable maestría en sistemas de capas ópticas completan nuestra base de conocimiento técnico sin igual.
Excellence in sputtering technology and unsurpassed mastery of optical layer systems complete our unrivalled bedrock of know-how.
El nuevo sistema de sputtering DEIMOS 5500 de Bühler Leybold Optics está diseñado para recubrir espejos astronómicos con un diámetro de hasta 4,5 m.
The new DEIMOS 5500 sputtering system, manufactured by Bühler Leybold Optics, is designed for the coating of astronomical mirrors with diameters of up to 4.5 m.
Fabricante de sistemas de vacío de diseño personalizado y componentes para la deposición por láser, sputtering, haz de iones, y otras técnicas de grabado y de deposición.
Manufacturer of custom designed vacuum systems and components for laser deposition, sputtering, ion beam, and other etch and deposition techniques.
El sistema único de regulación del flujo de gas ofrece altas tasas de sputtering reactivo con la mínima oxidación de material diana y un consumo reducido de gas de proceso.
The unique process gas flow management results in high reactive sputtering rates with lowest target oxidation and reduced process-gas consumption.
Material de alta pureza utilizado como fuente de sputtering, proceso de evaporación en frío donde los átomos son desplazados de la superficie del blanco por bombardeo iónico.
A high purity material used as a source for sputtering, a cold vaporization process in which atoms are physically removed from the target surface by ion bombardment.
DEIMOS 5500 El nuevo sistema de sputtering DEIMOS 5500 de Bühler Leybold Optics está diseñado para recubrir espejos astronómicos con un diámetro de hasta 4,5 m.
The new DEIMOS 5500 sputtering system, manufactured by Bühler Leybold Optics, is designed for the coating of astronomical mirrors with diameters of up to 4.5 m.
Pulverización catódica magnetrón se divide generalmente en dos tipos: un afluente del chisporroteo y RF sputtering, afluente del dispositivo de pulverización catódica que es simple en principio, en el chisporroteo de metal, su tasa también es rápido.
Magnetron sputtering is generally divided into two kinds: a tributary of sputtering and RF sputtering, a tributary of the sputtering device which is simple in principle, in the sputtering of metal, its rate is also fast.
También el algoritmo es estable para errores informáticos, ya que el procesamiento incorrecto de solicitudes de puntos, acostado, por ejemplo, en los límites de la geometría, will not influence significantly on solving the problem in general with a sufficiently large number of sputtering points.
Also the algorithm is stable for computing errors, because improper processing of requests for points, lying, for example, on the borders of the geometry, will not influence significantly on solving the problem in general with a sufficiently large number of sputtering points.
Sputtering ginseng reduce claramente el volumen que ocupa.
Sputtering ginseng clearly reduces the volume it occupies.
Nano-estructuras de wolframio crecidas sobre sustratos de silicio mediante la técnica de HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering).
Tungsten nanostructures grown on silicon substrates by HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering).
Nano-estructuras de wolframio crecidas sobre sustratos de silicio mediante la técnica de HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering).
Tungsten nanostructures grown on silicon substrates by the technique of HIPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering).
Este proyecto se propone el desarrollo de nuevos recubrimientos nanoestructurados multifuncionales por la técnica de PVD-Magnetron Sputtering para aplicaciones mecánicas y tribológicas en los que se alcance un equilibrado compromiso entre todas las propiedades mencionadas de fricción, dureza, estabilidad térmica.
This project goal is to develop bew multifunctional nanostructured sys-tems by the Magnetron Sputtering PVD technique for mechanical and tribological applications where an adequate balance among the above-mentioned properties as friction, hardness and thermal stability are searched.
LEYBOLD OPTICS GLC 2000V es la herramienta de sputtering para tareas de alta precisión.
LEYBOLD OPTICS GLC 2000V is the sputtering tool for high precision demands.
Sputtering PVD sputtering permite una producción ilimitada de revestimientos metálicos en cualquier tipo de superficie.
Sputtering PVD Sputtering processes enable almost unlimited production of coatings on any type of surface.
Este método garantiza las mínimas pérdidas y ofrece unos resultados estequiométricos perfectos, incluso en sputtering de dianas de metal.
This method ensures lowest losses and perfect stoichiometry results–even when sputtering from metal targets.
Desarrollo de la técnica de magnetron sputtering para la fabricación de nano‐estructuras (capas delgadas, recubrimientos y micro-estructuras multicapas).
Development of sputtering technology for the fabrication of nanostructures (thin films, coatings and controlled microstructure multilayers).
LEYBOLD OPTICS GLC serie H es una herramienta de recubrimiento por sputtering horizontal en línea diseñada específicamente para recubrir vidrio arquitectónico.
The LEYBOLD OPTICS GLC series H is a horizontal inline sputter-coating tool specifically designed for the needs of architectural glass coating.
Nuevos procesos de deposición mediante técnicas de sputtering de alta potencia, arco pulsado, plasmas de alta presión o implantación por plasma (PIII)
New deposition processes by means of high-power sputtering techniques, pulsed arc, high-pressure plasmas or plasma immersion ion implantation (PIII)
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